EI(electronics-inc)流量阀

EI(electronics-inc)流量阀

产品概述

EI Electronics MC MagnaValve是新一代工业级智能流量控制阀，专为压力、高洁净度及超精密流体场景设计。其创新性融合了EI的MagnaCore™多级磁感驱动系统与嵌入式AI控制芯片，可在0.1-50 bar超宽压力范围内稳定调节气体、液体及纳米级悬浮介质的流量。该产品广泛应用于半导体制造、氢能储运、生物医药等高技术领域，以纳米级精度、全生命周期自诊断及多协议物联能力，重新定义工业流体控制标准。

核心技术特点

多级磁感驱动架构（MagnaCore™）‌

采用五层轴向磁路阵列设计，驱动力密度较传统电磁阀提升3倍，响应时间≤5ms。阀芯采用碳化硅陶瓷与纳米镀层工艺，耐受氢氟酸、超纯水等介质，工作温度范围扩展至-196℃（深冷）至300℃（高温），使用寿命突破5000万次循环。

AI动态校准系统‌

集成多模态传感器（流量、压力、温度、振动），每秒执行2000次数据采集，通过内置TensorFlow Lite模型实时优化控制参数。支持MQTT/OPC UA协议，实现与工业4.0平台的毫秒级数据同步，流量控制精度达±0.1% FS。

全封闭洁净设计‌

阀体采用电化学抛光316L超低碳不锈钢，流道表面粗糙度Ra≤0.1μm，满足SEMI F57超纯水标准。可选配真空级密封（漏率＜1×10⁻⁹ mbar·L/s）与ISO 1级洁净室装配工艺，适配芯片光刻胶、疫苗原液等超敏感介质输送。

应用场景

半导体制造‌：极紫外光刻（EUV）设备冷却剂流量控制、晶圆清洗超纯水分配。

氢能源系统‌：70MPa高压氢气管网压力调节、液氢储罐加注流量管理。

生物制药‌：mRNA疫苗微流控生产、一次性生物反应器培养基精准供给。

科研装置‌：聚变堆超导磁体液氦循环、同步辐射光源液态金属靶控制。

性能优势

超高压能力‌：50 bar连续工作压力，峰值耐受100 bar冲击载荷。

纳米级洁净‌：通过FDA 21 CFR Part 11电子记录认证，颗粒释放量＜5 particles/mL（≥0.5μm）。

自主运维‌：数字孪生系统预测阀门健康状态，自动生成维护工单并推送备件清单。

能效‌：动态功耗＜2W（@24VDC），较同类产品节能60%。

技术参数

项目参数值

公称通径DN6/DN10/DN15/DN20

工作压力0.1-50 bar（标准）/ 100 bar（定制）

介质兼容性气体/液体/纳米浆料（粘度≤10⁶ cP）

控制信号4-20mA/EtherCAT/Profinet IRT

泄漏等级ANSI/FCI 70-2 Class VI（金属密封）

认证标准SEMI S2/S8、ASME BPE、ISO 14644-1

安装与维护

需采用无应力安装工艺，配套EI HyperMount™对中夹具确保法兰平行度≤0.02mm。维护时通过NFC近场通信获取设备档案，支持热插拔更换核心模块（MTTR＜15分钟）。每5年执行一次全性能校准，EI全*服务中心提供原位标定服务。

认证与质保

通过ISO 9001:2015、CE（2014/34/EU ATEX）、SIL 3（IEC 61508）认证，质保期升级至5年（含AI核心模块）。所有生产数据上链存证，用户可通过EI Blockchain Portal追溯每个零部件的材料批次与测试记录。

如需获取洁净室安装指南或参与定制化开发项目，请登录EI Industry 4.0 Hub或联系专属技术顾问。

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